半導體工藝的尖端制程環境要求
公司核心産品風機過濾單元及空氣過濾器的典型應用場景為潔淨室,随着半導體芯片關鍵線寬尺寸縮減,
制程工藝的不斷改進叠代,對空氣過濾技術不斷提出最嚴苛的要求。
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半導體線寬
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5納米制程要求潔淨度ISO Class 1
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“酸性”氣體引起的電路腐蝕問題
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“堿性”氣體引起的T-topping問題
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美埃風機過濾單元大規模應用,見證中國半導體産業成長
技術特點:低噪音、高效率、低能耗運行、群控系統、使用壽命長。
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FFU
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EFU
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氣态分子污染物控制技術,助力半導體良率提升
随着半導體芯片關鍵線寬尺寸縮減,制程工藝的不斷改進叠代,氣态分子污染物AMC ( Airborne Molecular Contamination)的控制技術已經成為半導體良率提升的必要手段。從2005年開始,美埃氣态過濾解決方案一直緻力服務于中國大陸的晶圓廠。除為客戶提供化學濾網産品外,在南京研發中心設有化學實驗室,從原材料到成品,對每一階段進行檢驗測試,并在産品交付客戶現場後,取樣驗證安裝後的濃度達到應用要求,定期回訪測試。
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![FFU用闆式離子交換纖維化學過濾器Puro-F FFU用闆式離子交換纖維化學過濾器Puro-F](static/picture/ew14.png)
闆式離子交換纖維
化學過濾器Puro-F
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闆式改性活性碳
化學過濾器Puro-P
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箱式活性炭化學過濾器
Puro-C
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單法蘭V型離子交換纖維
化學過濾器Puro-V
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炭筒
化學過濾器CT
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無法蘭離子交換樹脂
化學過濾器Puro-V
美埃與中國半導體行業共同成長
部分客戶案例
![業務範圍 業務範圍](static/picture/ddc1.jpg)
中芯國際(上海)14納米制程公布良率已達業界量産水準
![業務範圍 業務範圍](static/picture/gz11.jpg)
重慶惠科8.6代超高清顯示器件線公布良率98.5%
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上海微電子光刻設備潔淨度ISO Class 1
![業務範圍 業務範圍](static/picture/pu1.jpg)
華星光電G11項目榮獲LEED鉑金級認證
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美埃是首個京東方選用替代國外品牌的供應商
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華虹自研突破28納米劍指14納米
大規模高速群控系統
監控>10萬台FFU 丨 遠端故障反饋<8秒 丨 兼容交直流風機 丨 兼容多種通訊協議 丨 自動組态技術 丨 無線控制技術 丨 優化矢量脈寬調制低諧波技術
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