項目背景

　　浙江某半導體設計及制造企業，總部位于杭州，專注于存儲芯片及相關芯片的設計、制造，面向物聯網、智傳終端、工業控制及汽車電子領域提供半導體芯片和應用解決方案。

　　芯片制造随着線寬的降低，工藝更複雜，工序更繁瑣，使用的化學品種類更多。很多關鍵工藝(如光刻工藝)需要在特定的潔淨環境下進行。除了控制常規的懸浮顆粒污染物(TSP)的濃度，還需對潔淨室内直徑更小的氣态分子污染物(AMC)濃度進行嚴格控制。且在特定區域(如黃光區)還需額外注意一些難溶化合物(Refractory Compounds，RC)的管控，以确保光刻機的鏡頭處于良好的使用環境。

　　對AMC的定義及分類

　　工業潔淨廠房送風一般為新風空調箱補給及循環風供應，為了控制AMC的濃度，一般會在循環風系統中的風機過濾單元(FFU)上安裝化學過濾器，對潔淨廠房内特定區域進行相關空氣治理。本次案例為改造案例，潔淨室内黃光區FFU上已安裝一片式化學過濾器，用于去除酸性化合物，堿性化合物及可凝結化合物。由于業務擴展因素，增加光刻機兩台，并需對潔淨室内難溶化合物(RC)進行重點管控。

　　産品介紹

　　美埃提供了該項目現場AMC采樣服務，了解到實際濃度後，在現有FFU化學過濾器産品上再搭載RC化合物去除專用過濾器Puro-F 。

　　Puro-F化學過濾器外觀圖

　　化濾安裝前後RC檢測濃度對比

　　安裝後，經第三方檢測機構采樣，成功将潔淨室該區域RC化合物的濃度控制到0.1ppbv以下。且經過第三方檢測機構對該區域RC化學物濃度的持續監測，該RC化學過濾器産品使用周期超出業主預計值三倍，達到了過濾行業領先水平。

　　化學過濾器安裝前RC濃度(第三方報告)