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半導體超潔淨解決方案

  • 分類:解決方案
  • 作者:
  • 來源:
  • 發布時間:2021-08-27 18:11
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【概要描述】随着半導體芯片關鍵線寬尺寸縮減,從早期的微米(μm)級别發展到現今的納米(nm)級别,芯片制造對潔淨度的要求越來越高。如果生産過程中空氣潔淨程度達不到要求,産品良率會受到很大影響。集成電路産業鍊幾乎所有的主要環節,從單晶矽片制造、到IC 制造及封裝,都需要在潔淨室中完成,且對于潔淨度的要求非常高。為了維持潔淨室的潔淨度,半導體潔淨廠房通常采用垂直單向流的方式,通過推出作用将室内污染的空氣排至室外,從而達到淨化室内空氣的目的。美埃作為國内大型芯片和液晶面闆廠家的重要供應商,為這些行業提供符合潔淨要求、高效率、低耗能、低噪音的空氣淨化産品。   除了在半導體或液晶面闆廠房的天花闆上大面積使用FFU來達到垂直單向流以外,在各别區域的機台端還需要通過搭建微環境或機台端安裝EFU的方式來嚴格管控機台區域的潔淨度,以滿足機台設備更加嚴格的控制标準。   另外,随着制程工藝的不斷改進叠代,單靠控制顆粒物已無法再提高良率,氣态分子污染物AMC(Airborne Molecular Contamination)的控制技術已經成為半導體良率提升的必要手段。  

半導體超潔淨解決方案

【概要描述】随着半導體芯片關鍵線寬尺寸縮減,從早期的微米(μm)級别發展到現今的納米(nm)級别,芯片制造對潔淨度的要求越來越高。如果生産過程中空氣潔淨程度達不到要求,産品良率會受到很大影響。集成電路産業鍊幾乎所有的主要環節,從單晶矽片制造、到IC 制造及封裝,都需要在潔淨室中完成,且對于潔淨度的要求非常高。為了維持潔淨室的潔淨度,半導體潔淨廠房通常采用垂直單向流的方式,通過推出作用将室内污染的空氣排至室外,從而達到淨化室内空氣的目的。美埃作為國内大型芯片和液晶面闆廠家的重要供應商,為這些行業提供符合潔淨要求、高效率、低耗能、低噪音的空氣淨化産品。

  除了在半導體或液晶面闆廠房的天花闆上大面積使用FFU來達到垂直單向流以外,在各别區域的機台端還需要通過搭建微環境或機台端安裝EFU的方式來嚴格管控機台區域的潔淨度,以滿足機台設備更加嚴格的控制标準。

  另外,随着制程工藝的不斷改進叠代,單靠控制顆粒物已無法再提高良率,氣态分子污染物AMC(Airborne Molecular Contamination)的控制技術已經成為半導體良率提升的必要手段。

 


  • 分類:解決方案
  • 作者:
  • 來源:
  • 發布時間:2021-08-27 18:11
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1111 半導體超潔淨解決方案

 

  随着半導體芯片關鍵線寬尺寸縮減,從早期的微米(μm)級别發展到現今的納米(nm)級别,芯片制造對潔淨度的要求越來越高。如果生産過程中空氣潔淨程度達不到要求,産品良率會受到很大影響。集成電路産業鍊幾乎所有的主要環節,從單晶矽片制造、到IC 制造及封裝,都需要在潔淨室中完成,且對于潔淨度的要求非常高。為了維持潔淨室的潔淨度,半導體潔淨廠房通常采用垂直單向流的方式,通過推出作用将室内污染的空氣排至室外,從而達到淨化室内空氣的目的。美埃作為國内大型芯片和液晶面闆廠家的重要供應商,為這些行業提供符合潔淨要求、高效率、低耗能、低噪音的空氣淨化産品。

  除了在半導體或液晶面闆廠房的天花闆上大面積使用FFU來達到垂直單向流以外,在個别區域的機台端還需要通過搭建微環境或機台端安裝EFU的方式來嚴格管控機台區域的潔淨度,以滿足機台設備更加嚴格的控制标準。

  另外,随着制程工藝的不斷改進叠代,單靠控制顆粒物已無法再提高良率,氣态分子污染物AMC(Airborne Molecular Contamination)的控制技術已經成為半導體良率提升的必要手段。

 

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