随着半導體芯片關鍵線寬尺寸縮減，從早期的微米(μm)級别發展到現今的納米(nm)級别，芯片制造對潔淨度的要求越來越高。如果生産過程中空氣潔淨程度達不到要求，産品良率會受到很大影響。集成電路産業鍊幾乎所有的主要環節，從單晶矽片制造、到IC 制造及封裝，都需要在潔淨室中完成，且對于潔淨度的要求非常高。為了維持潔淨室的潔淨度，半導體潔淨廠房通常采用垂直單向流的方式，通過推出作用将室内污染的空氣排至室外，從而達到淨化室内空氣的目的。美埃作為國内大型芯片和液晶面闆廠家的重要供應商，為這些行業提供符合潔淨要求、高效率、低耗能、低噪音的空氣淨化産品。 　　除了在半導體或液晶面闆廠房的天花闆上大面積使用FFU來達到垂直單向流以外，在各别區域的機台端還需要通過搭建微環境或機台端安裝EFU的方式來嚴格管控機台區域的潔淨度，以滿足機台設備更加嚴格的控制标準。 　　另外，随着制程工藝的不斷改進叠代，單靠控制顆粒物已無法再提高良率，氣态分子污染物AMC(Airborne Molecular Contamination)的控制技術已經成為半導體良率提升的必要手段。  

　　在生物醫藥行業，通過使用公司生産的各級别過濾器，使環境免受顆粒物及微生物的污染，并達到 GMP 規範要求的空氣潔淨度。公司為潔淨室内部的局部區域提供微環境超潔淨解決方案，包含超薄型設備端自帶風機過濾機組(EFU)， 将大環境與局部高級别小環境的潔淨度控制有效結合。此外，公司生産的稱量罩、 層流罩、BIBO 系統等空氣淨化設備，為制藥行業在生産過程中維持空氣潔淨度、 提高産品良率、實現無污染排放等均起到重要的保障作用。